小型、簡単、低価格なRFスパッタ装置
特長
- コンパクトなベンチトップサイズ
- イージーオペレーション
- 金属薄膜はもとより、絶縁膜や酸化物薄膜作製に最適
- 小型ながら充実した装備とオプション群
基本仕様
| スパッタカソード | 水冷式マグネトロン φ2インチ×1源 |
| スパッタ方向 | ダウン |
| RF電源 | 200W 13.56MHz 手動マッチングBOX付 |
| チャンバー部 | φ160mm×H311mm(給電部含) SUS製 ビューポート/水冷パイプ付 |
| 真空ポンプ | DP：200l/sec RP：20l/min TMP：67l/sec(@N2) RP：20l/min (オプション) |
| 到達圧力 | 7×10-4 Pa以下 |
| 圧力測定 | ピラニー真空計 |
| ガス導入機構 | マスフローコントローラー Ar：30sccm |
| 寸法・重量(本体) |
W787/D400/H859mm 約80kg ※高さ及び重量は、構成により変動します。 |
| 所要電源 | 単相100V 50/60Hz 15A |
オプション
- 基板加熱ユニット（300℃/600℃タイプ）
- 基板冷却ユニット
- 基板回転傾斜ユニット
- 電離真空計
- 水晶振動子式膜厚モニター
- ガス導入機構追加
※上記以外にも、ご要望に応じてのオプション追加を行なっております。