EB描画機器

電子線描画用パターン発生装置 SPG-724

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電子線描画用パターン発生装置 SPG-724  

特長

  • アドオンスタイルのEBリソグラフィ用パターン発生装置 ⇒ 様々なタイプのSEMに取付けることが可能です。
  • 市販CADの採用により浮かんだアイデアをすぐさま形にできる使いやすさ
  • 電子線描画専用機を扱うときのような専門知識/熟練技術を必要としないため、どなたでも気軽にパターンをつくることができます。
  • 広域エリア(最大5mm)の一括露光を実現


描画データ例



基本仕様

描画方式 ラスタースキャン方式/ブロックスキャン方式
スキャンスピード
(ドーズタイム)
0.5~10,000μsec/ピクセル
(設定単位:0.1μsec/ピクセル)
描画ピクセル数 ラスタースキャン方式 ブロックスキャン方式
1,000×1,000
2,000×2,000
4,000×4,000
5,000×5,000
10,000×10,000
1,000×1,000
描画フィールド 50μm□/100μm□/
200μm□/500μm□
2,500μm□
1ブロック=2.5μm□
(SEM仕様による)


機器構成

品名 パターン発生装置
形式 SPG-724
機器構成 パターン発生装置本体
ソフトウェア
PC
用途 ・EB描画パターンを作成し、このパターン通りにビーム制御するための装置
・描画制御ソフトウエア、図形データ作成ソフトウエア

品名 ブランキングユニット
形式 PG-BBD
機器構成 ブランキング電極
ドライバ
200V電源
用途 ・描画命令に従ってビームブランキングを行なう装置
・鏡筒に電極を挿入する必要があり、PCDポートを利用する

品名 吸収電流計
形式 PG-AEM
機器構成 電流計本体
用途 ・pA~nAオーダの電流計
・試料に照射される電流量をモニターする


オプション

  • 高精度ステージ(制御ソフトウェア含)
  • 高安定化偏向アンプ