EB(電子ビーム)タイプ蒸着装置

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蒸着装置：　EBタイプ

■ SVC-700EB / SVC-700LEB

SVC-700EB

SVC-700LEB

【特　　　徴】

－酸化物薄膜や絶縁膜、抵抗加熱方式による蒸着に不向きな高融点金属の薄膜
　　作製に適しています。

－小さな基板を使用する場合や、ごく少量しか試料作製を行わない場合、あるいは
　　単層膜の作製のみで良い場合、小型チャンバーで経済的かつ高効率のEB 蒸着
　　装置：SVC-700EBをお薦めします。

－ 3連式または4連式E-GUNの採用により、多層成膜に対応(SVC-700LEB)。

－ゆとりあるチャンバーサイズで、大型サイズの基板への蒸着膜作製がストレスなく
　　行なえます(SVC-700LEB)。

【用途・実績例】

　　・　各種デバイスの電極膜付け
　　・　反射薄膜作製用途　　etc.

【基本仕様】

	SVC-700EB	SVC-700LEB/3G	SVC-700LEB/4G
蒸着方式	電子ビーム蒸着
E-GUN	2kW E型電子銃（シングル）	2kW 3連式E型電子銃	5kW 4連式E型電子銃
EB電源	-4kV×500mA (Max)	-4kV×500mA (Max)	-10kV×500mA (Max)
抵抗加熱蒸着	電極2組 12V45A / 7V80A	オプション
チャンバー	内径φ160mm×H225mm （ガラス製）	内径φ400mm×H400mm （円筒型・SUS 製）
排気系	DP 200L/sec ＋ RP 20L/min TMP 67L/sec（N₂）＋ RP 20L/min （オプション）	TMP 240L/sec ＋ RP 100L/min
到達真空度	10^-4Pa 台（5×10^-4Pa）	10^-4Pa 台（2.5×10^-4Pa）
真空計	ピラニー/電離真空計（オプション）	ピラニー/電離真空計
所要電源	単相100V　50/60Hz　5kVA	単相100V　50/60Hz　5kVA	単相100V　50/60Hz　3kVA 三相200V　50/60Hz　10kVA
寸法・重量	本体：約600W/400D/950H mm 約75kg （RP別置き）操作ラック：約570W/800D/1750H mm 約230kg	本体：約750W/600D/1500H mm　　約250kg （RP別置き）操作ラック：約570W/800D/1750H mm　　約230kg

【オプション】

□ 基板加熱ユニット　　・Max300℃　φ2～4インチ　　・Max600℃　φ2～4インチ　　・Max1000℃　φ2インチ　　（* O₂対応可能　　* 冷却/回転傾斜との併用不可）	□ 基板回転加熱ユニット　　・Max600℃　φ2～4インチ　　（* O₂対応可能　　* 冷却/回転傾斜との併用不可）
□ 基板冷却ユニット　　・水冷循環式冷却　φ2～4インチ　　・冷凍機付水冷循環式冷却（チラー含）　　　φ2～4インチ　　（* 加熱/回転傾斜との併用不可）	□ 基板回転傾斜ユニット　　・φ2インチタイプ　　・φ4インチタイプ　　（* 加熱/冷却との併用不可）
□ MFC（各種ガス対応）	□ 水晶振動子式膜厚モニタ
□ 抵抗加熱源ユニット　　（* 蒸着電源 SVC-7PS80必要）