スパッタ、真空蒸着、電子ビーム、電子顕微鏡のサンユー電子
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電子顕微鏡試料作成用装置
■ イオンミリング装置 SVM-730
低価格イオンミリングシステム
   【 特   徴 】

   − 電解研磨や化学研磨で対処できない試料最表面の研
     磨に最適な装置です。

   − 電解研磨や化学研磨処理後の仕上げ用装置としても
     最適なイオンミリング装置です。

   − イオンミリングするための特殊な試料づくり(ウルトラミ
     クロトクロトーム等による切片作成)を必要としません。

   − マイコン制御により、プロセスの高精度コントロールを
     実現。

                          − FIB装置に比べて、コストパフォーマンスに優れます。

【基本仕様】

イオンガン
タイプ

印加電圧

照射電流

ビーム径

照射範囲

直流マグネトロン放電型
1 〜 8keV
Max. 400μA
Max. φ4mm
φ8mm (回転時)
エッチングスピード 最大 20nm/min (Si基板/8keV時)
導入ガス Arガス使用 (純度B以上/0.15MPa)
チャンバー部 内径φ160mm×H140mm (SUS 製)
ステージ T軸: −90°〜 +90°
R軸: 360°(Max. 15RPM)
試料サイズ φ50mm×H23.5mm (但し、φ100mm装着可能)
真空ポンプ TMP: 50l/sec  RP: 20l/min
到達圧力 10-4Pa 台
寸法(W/D/H) 520/310/280mm (但し、TMP部含む場合D:470mm)
重量 約 25kg (RP除く)
所要電源 単相100V 15A 50/60Hz 3Pコンセント
 

サンユー電子株式会社
東京都新宿区百人町1-22-6 Tel : 03-3363-3551 Fax : 03-3364-2892
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