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| EB(電子ビーム)機器 |
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| ■ 電子線描画用パターン発生装置 SPG-724 
【 特 徴 】− アドオンスタイルのEBリソグラフィ装置 ⇒ 様々なタイプ のSEMに取付けることが可能です。 − 浮かんだアイデアをすぐさま形にできる使いやすさ − 電子線描画専用機を扱うときのような専門知識/熟練技 術を必要としないため、EBリソグラフィの入門機としても 最適です。 − 広域エリア(最大5mm)の一括露光を実現 |
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= TFE-SEMに装着した例 = JSM-6500F (日本電子製)に装着 |
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= 微細パターン描画例 (ラスタースキャン/200μm□) =  |
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