スパッタ、真空蒸着、電子ビーム(EB)、電子顕微鏡のサンユー電子のトップへ
スパッタ真空蒸着試料作成その他真空試験計測画像取込/観察描画ステージ
会社概要 お問い合わせ 求人情報 原理と仕組み 研究室リンク
原理と仕組み 真空蒸着の原理


真空蒸着とは・原理

真空中で物質に膜を付ける方法で、スパッタより前に実用化された成膜技術です。スパッタより簡素でわかりやすい原理です。

原理
1: 膜を付ける試料と膜の原料を容器内におく。(スパッタと違い距離を離す)
2: 全体を真空状態にして、原料を熱で溶かす。(蒸発させる。)
3: 原料が気体分子となり、試料に衝突、付着し、膜が形成される。

加熱溶解の方法によって、抵抗加熱式、電子ビーム式、高周波誘導式、レーザー式などがある。
原料分子が試料に達する前に残存気体分子に衝突しない為、また、気体分子自体が試料に衝突しない様、スパッタ(数 Pa )より高い真空度(10-3〜10-4 Pa )が必要。

真空蒸着の原理





サンユー電子株式会社
東京都新宿区百人町1-22-6 Tel : 03-3363-3551 Fax : 03-3364-2892 E-Mail : sales@sanyu-electron.co.jp
Copyright © All rights reserved.