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| 真空蒸着の原理 |
真空蒸着とは・原理真空中で物質に膜を付ける方法で、スパッタより前に実用化された成膜技術です。スパッタより簡素でわかりやすい原理です。 原理
1: 膜を付ける試料と膜の原料を容器内におく。(スパッタと違い距離を離す) 2: 全体を真空状態にして、原料を熱で溶かす。(蒸発させる。) 3: 原料が気体分子となり、試料に衝突、付着し、膜が形成される。 加熱溶解の方法によって、抵抗加熱式、電子ビーム式、高周波誘導式、レーザー式などがある。 原料分子が試料に達する前に残存気体分子に衝突しない為、また、気体分子自体が試料に衝突しない様、スパッタ(数 Pa )より高い真空度(10-3〜10-4 Pa )が必要。 ![]() |
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