EB描画機器

小型電子線描画装置 ACE-7000EBL

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小型電子線描画装置 ACE-7000EBL  

特長

  • 低価格/コンパクト/簡単操作
  • 素早く起動、浮かんだアイデアをすぐさま形にできる使いやすさ。
  • EB描画装置を手軽に導入できます。


描画データ例

細線パターン
同心円パターン



基本仕様

描画方式 ラスタースキャン方式/ブロックスキャン方式
描画線幅 200nm
描画ピクセル数 ラスタースキャン方式 ブロックスキャン方式
1,000×1,000
2,000×2,000
4,000×4,000
5,000×5,000
10,000×10,000
1,000×1,000
描画フィールド 50μm□/100μm□/
200μm□/500μm□
2,500μm□
1ブロック=2.5μm□
(SEM仕様による)
電子銃 カートリッジ交換方式/Wフィラメント
加速電圧 20kV(5/10/15/20kV可変)
電子銃軸合わせ マニュアル